图：手机金属外壳的纳米注塑效果，艾邦高分子拍摄
TRI处理技术是日本东亚电化株式会社发明的一种纳米注塑前处理技术，并于2009-2013年申请了欧洲、香港和美国专利。
TRI处理和我们常见的T处理（日本大成发明）作用机理不同：T处理主要是在金属板表面“挖出”纳米孔洞；而根据TRI相关专利描述，该过程先形成厚度为70-1500nm的阳极氧化膜；还描述了氧化膜中含有一种叫三嗪硫醇的物质，在网上查找三嗪硫醇，它能促使高分子的硫化交联，从而有利于塑料和金属的粘接。也就是说T处理等是减材造孔，而TR
图：手机金属外壳的纳米注塑效果，艾邦高分子拍摄
TRI处理技术是日本东亚电化株式会社发明的一种纳米注塑前处理技术，并于2009-2013年申请了欧洲、香港和美国专利。
TRI处理和我们常见的T处理（日本大成发明）作用机理不同：T处理主要是在金属板表面“挖出”纳米孔洞；而根据TRI相关专利描述，该过程先形成厚度为70-1500nm的阳极氧化膜；还描述了氧化膜中含有一种叫三嗪硫醇的物质，在网上查找三嗪硫醇，它能促使高分子的硫化交联，从而有利于塑料和金属的粘接。也就是说T处理等是减材造孔，而TR